Laboratoř pro přípravu nanostruktur využívají optického laserového litografu a systému pro depozici tenkých vrstev. Optický litograf umožňuje přímý zápis navrhované struktury s rozlišením až 300 nm na pixel a celkovou velikostí zapisovaného motivu až 10x10 cm. Po zápisu, je fotorezist vyvolán a může být pokryt tenkou vrstvičkou (v řádech jednotek či desítek nanometrů) v reaktoru depozice tenkých vrstev. Tento systém umožňuje naprašovaní tenkých kovových a dielektrických vrstev. Pro speciální aplikace a materiály je možné připravit tenké vrstvy kovů termální evaporací. Velikou předností naší depozice tenkých vrstev je možnost depozice až 4 různých materiálů během jednoho procesu a to i s využitím depozice v reaktivní, kyslíkové, atmosféře. Depoziční aparaturu je možné osadit spektroskopickým elipsometrem a monitorovat a kontrolovat tak růstové procesy v reálném čase.
Přístroje:
- Optilcký litograf s přímým zápisem PicoMaster 100, RAITH
- Optický mikroskop BX53M, Olympus
- Depozice tenkých vrstev, PREVAC
Doplňkové přístroje pro fabrikci:
- Spin-Coater SPIN150i, POLOS
- Hot-plate SuperNuova, Thermo Scientific
- Lázeň ultrazvuková Fisherbrand FB 11203, Fisher Scientific
- UV ozónová čistička, Ossila
- Třepačka KS 130, horizontální kruhový pohyb, IKA
